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法人番号 2010001058951

メルテックス株式会社

東京都中央区
照合済みの公的データ
国税庁
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基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2018-10-02
商号
メルテックス株式会社
法人種別
株式会社
本店所在地
東京都中央区日本橋本町4丁目8番2号
法人番号指定日
2015-10-05
同じ住所に登記されている法人 公開
出所 国税庁 登記住所

この会社と同一の登記住所に登記されている他の法人です(全4社)。同一住所に多数の法人がある場合はレンタル/バーチャルオフィスの可能性がありますが、件数の事実のみを示し判定はしません。

  1. その他の設立登記法人
    3010005015997
  2. 6010001036747
  3. 8010001211208
  4. 9010001034748
  5. 株式会社
    9010001211207
  6. 9011501026722
知的財産(特許・意匠・商標) 会員
出典 経済産業省 gBizINFO(特許庁の産業財産権情報)
特許 19商標 2
特許 無電解銅めっき液 登録7111410
特許 レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法 登録7407479
特許 レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法 登録7407479
特許 レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法 登録7407479
特許 アルミニウムおよびアルミニウム合金のめっき前処理方法 登録7416425
特許 シリコン半導体基板のエッチング方法、半導体装置の製造方法およびエッチング液 登録7236111
特許 シリコン半導体基板のエッチング方法、半導体装置の製造方法およびエッチング液 登録7236111
特許 無電解Ni-Fe合金めっき液 登録6960677
特許 銅エッチング液 登録6949306
特許 銅エッチング液 登録6949306
特許 電解銅めっき用陽極、及びそれを用いた電解銅めっき装置 登録6653799
特許 電解銅めっき用陽極、及びそれを用いた電解銅めっき装置 登録6653799
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特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
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商標 LUCENT COPPER 登録5748763
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基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
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注意情報 有無を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
注意情報は確認されていません
破産手続・解散・行政処分の公表を毎日照合しています
基本情報の時系列 会員
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特許 無電解銅めっき液 登録7111410
特許 レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法 登録7407479
特許 レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法 登録7407479
特許 レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法 登録7407479
特許 アルミニウムおよびアルミニウム合金のめっき前処理方法 登録7416425
特許 シリコン半導体基板のエッチング方法、半導体装置の製造方法およびエッチング液 登録7236111
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特許 無電解Ni-Fe合金めっき液 登録6960677
特許 銅エッチング液 登録6949306
特許 銅エッチング液 登録6949306
特許 電解銅めっき用陽極、及びそれを用いた電解銅めっき装置 登録6653799
特許 電解銅めっき用陽極、及びそれを用いた電解銅めっき装置 登録6653799
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特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
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特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
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商標 LUCENT COPPER 登録5748763
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