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法人番号 5030001074060

株式会社エンプラス

上場 プライム 埼玉県川口市 従業員 406名
照合済みの公的データ
国税庁 年金機構 gBizINFO EDINET
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基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2021-09-14
商号
株式会社エンプラス
法人種別
株式会社
証券コード
6961　東証プライム・電気機器（TOPIX Small 2）
本店所在地
埼玉県川口市並木２丁目３０番１号
電話番号
048-253-3131 （有価証券報告書 表紙より）
法人番号指定日
2015-10-05
インボイス登録
登録済　T5030001074060（2023-10-01登録）
代表者
横田 大輔
従業員数
406名
公式サイト
www.enplas.co.jp/
事業概要 公開
出所 gBizINFO（事業者の登録情報）
エンジニアリングプラスチックおよびその複合材による高精度・高機能精密機構部品の開発・製造・販売
従業員数 公開
出所 日本年金機構
取得 2026-07-18
406 名 厚生年金 被保険者数
注意情報 官報を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
官報の公告は確認されていません
破産手続・解散・合併等の官報公告を毎日照合しています
🔒 与信チェック（公的データ5源との照合） 有料プラン

この企業について、以下の照合結果（記録の有無・件数・内容・出典）を確認できます。

🔒 行政処分の公表 消費者庁・公正取引委員会・金融庁・個人情報保護委員会・都道府県
🔒 労働基準関係法令違反の公表 47労働局の送検事案
🔒 指名停止措置 都道府県の発注機関
🔒 雇用関係助成金の不正受給の公表 47労働局（返還額つき）
🔒 インボイス登録の失効・取消 国税庁
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活動シグナル
備考 事実の列挙であり休眠の断定ではありません
公式サイトのCopyright表記: 2026年
採用ページあり（公式サイト）
公式サイトのCopyright表記: 2026年
採用ページあり（公式サイト）
同じ住所に登記されている法人 公開
出所 国税庁 登記住所

この会社と同一の登記住所に登記されている他の法人です（全3社）。同一住所に多数の法人がある場合はレンタル／バーチャルオフィスの可能性がありますが、件数の事実のみを示し判定はしません。

  1. 4030005018824
  2. 6030001091897
財務ハイライト 会員
出所 EDINET 有価証券報告書
提出 2026-06-26
最新期の主要数値 2026-03期 無料公開
売上高
425.4億円
純利益
52.3億円
総資産
710.5億円
純資産
625.7億円
自己資本比率
87.8%
EPS
587.9円
1株配当
90円
純利益率 12.3%1人あたり売上 31百万円ROE 8.9%ROA 7.4%増収率 +11.7%
8期サマリー
指標直近前期比CAGR推移（古→新）
売上高 425.4億円 +11.7% +4.5%
経常利益 64.8億円 +19.0% +19.4%
純利益 52.3億円 +32.7% +48.3%
総資産 710.5億円 +13.2% +3.3%
純資産 625.7億円 +11.3% +2.8%
EPS（1株利益） 587.9円 +31.7% +56.1%
BPS（1株純資産） 6,905.4円 +10.4% +8.0%
営業CF 69.9億円 -1.9% +8.5%
現金・現金同等物 238.0億円 -1.0% -0.7%
自己資本比率 87.8% -0.2pt —
ROE 8.9% +1.5pt —
売上高の推移
2019-03
312.8億円
2020-03
314.6億円
2021-03
294.4億円
2022-03
328.9億円
2023-03
422.4億円
2024-03
378.1億円
2025-03
380.7億円
2026-03
425.4億円
純利益の推移 （■黒字 / ■赤字）
2019-03
3.3億円
2020-03
4.9億円
2021-03
8.9億円
2022-03
25.3億円
2023-03
46.2億円
2024-03
34.4億円
2025-03
39.4億円
2026-03
52.3億円
損益
決算期売上高営業利益経常利益純利益
2026-03 425.4億円-64.8億円52.3億円
2025-03 380.7億円-54.5億円39.4億円
2024-03 378.1億円-52.6億円34.4億円
2023-03 422.4億円-87.8億円46.2億円
2022-03 328.9億円-34.5億円25.3億円
2021-03 294.4億円-19.1億円8.9億円
2020-03 314.6億円-21.5億円4.9億円
2019-03 312.8億円-18.8億円3.3億円
財政状態・株主還元
決算期総資産純資産自己資本比率ROE1株配当
2026-03 710.5億円625.7億円 87.8% 8.9% 90円
2025-03 627.8億円562.2億円 88.0% 7.4% 70円
2024-03 600.3億円526.7億円 86.3% 7.0% 60円
2023-03 546.0億円473.1億円 85.3% 10.6% 60円
2022-03 470.6億円414.9億円 87.1% 6.4% 47.5円
2021-03 451.6億円381.0億円 83.0% 2.1% 30円
2020-03 550.0億円500.5億円 89.7% 1.0% 30円
2019-03 566.6億円516.1億円 90.4% 0.6% 55円
キャッシュ・フロー
決算期営業CF投資CF財務CF現金・現金同等物
2026-03 69.9億円-68.9億円-11.3億円238.0億円
2025-03 71.3億円-68.9億円-8.3億円240.3億円
2024-03 82.3億円-40.9億円-9.7億円247.0億円
2023-03 87.6億円-25.8億円-7.7億円207.5億円
2022-03 40.5億円-15.8億円-20.5億円148.3億円
2021-03 39.2億円-19.7億円-127.7億円136.8億円
2020-03 33.5億円-21.2億円-17.4億円242.6億円
2019-03 39.5億円-24.1億円-11.8億円250.8億円
連結優先・なければ単体。決算期変更があった企業は過去期の年月が実際とずれる場合があります
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女性活躍・両立支援 公開
出所 厚生労働省 女性の活躍推進企業データベース
時点 2026年7月31日時点
くるみん 厚生労働省等の認定制度
出典：女性の活躍推進企業データベースオープンデータ（2026年7月31日時点）（https://positive-ryouritsu.mhlw.go.jp/positivedb/opendata/）を加工して作成。企業が自ら入力・公表した情報で、空欄は非公表。男女間賃金比は男性=100としたときの女性の賃金割合（全労働者）。
給与・働く環境 公開
出所 EDINET 有価証券報告書（提出会社単体）
提出 2026-06-26
平均年収
680 万円
平均年齢
40.8 歳
平均勤続
14.6 年
10.6%
女性管理職比率
100.0%
男性育休取得率
78.7%
男女間賃金比
同業種内のポジション 電気機器・上場220社との比較 中央値より下
下位25% 624万中央値 708万上位25% 812万
有価証券報告書「従業員の状況」より（提出会社単体・当期）。男女間賃金比は男性=100としたときの女性の賃金割合。同業比較は東証33業種で分類した上場企業の最新期を四分位で集計（外れ値=100万円未満・1億円超は除外）
従業員数 公開
出所 日本年金機構 / EDINET
406 名 厚生年金 被保険者数（2026-07-18時点）
従業員数の推移（有報ベース）
2019-03
1,587名
2020-03
1,587名
2021-03
1,563名
2022-03
1,420名
2023-03
1,527名
2024-03
1,521名
2025-03
1,478名
2026-03
1,371名
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株式会社エンプラスの従業員データカード
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役員 会員
出所 EDINET 有価証券報告書
提出 2026-06-26
横田大輔
代表取締役社長
椎名聡
取締役
藤田慈也
取締役
赤塚孝江
取締役
井植敏雅
取締役（監査等委員）
久田眞佐男
取締役（監査等委員）
天羽稔
取締役(監査等委員)
沓沢茂雄
取締役(監査等委員)
有価証券報告書「役員の状況」記載の取締役・監査役等（提出日時点）
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大株主 会員
出所 EDINET 有価証券報告書
提出 2026-06-26
1 横田大輔
15.54%
2 日本マスタートラスト信託銀行株式会社（信託口）
10.99%
3 株式会社日本カストディ銀行（信託口）
6.19%
4 株式会社みずほ銀行（常任代理人株式会社日本カストディ銀行）
4.81%
5 株式会社埼玉りそな銀行
4.78%
6 横田誠
4.63%
7 公益財団法人エンプラス横田教育振興財団
3.32%
8 MORGAN STANLEY & CO. LLC（常任代理人 モルガン・スタンレーＭＵＦＧ証券株式会社）
3.21%
9 INTERACTIVE BROKERS LLC（常任代理人 インタラクティブ・ブローカーズ証券株式会社）
3.11%
10 JP JPMSE LUX RE UBS AG LONDON BRANCH EQ CO（常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行）
2.19%
有価証券報告書「大株主の状況」より（発行済株式総数に対する所有株式数の割合）
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沿革 公開
出所 EDINET 有価証券報告書「沿革」
1928-12 1日であります。 合併会社は被合併会社の資産・負債及び権利義務の一切を引継ぎましたが合併会社は合併以前は休業状態にあり、合併後において被合併会社の営業活動を全面的に継承いたしました。 したがって、以下の記述については被合併会社である旧第一精工株式会社（ 1990年4月商号変更、現株式会社エンプラス）を実質上の存続会社として記載いたします。年次摘要
1962-02 プラスチックねじ及びリベットの製造販売、金型及び精密機構部品の製造及び加工を目的として、第一精工株式会社の商号により資本金100万円をもって東京都板橋区に
1962-02 21日に設立。
1971-11 本店を埼玉県川口市に移転。
1975-05 シンガポールにENPLAS CO.,(SINGAPORE)PTE. LTD.〔現、ENPLAS HI-TECH(SINGAPORE)PTE.LTD.〕設立。
1980-04 米国ジョージア州にENPLAS(U.S.A.), INC.設立。
1980-04 埼玉県川口市に基礎研究部門を分離独立し、株式会社第一精工研究所〔現、株式会社エンプラス研究所〕設立。
1981-01 株式額面金額の変更を目的とし、エンプラス株式会社を形式上の存続会社として合併。合併と同時に商号を第一精工株式会社に変更。
1982-07 店頭銘柄として㈳日本証券業協会東京地区協会〔現、東京証券取引所〕へ登録、株式を公開。
1984-09 東京証券取引所市場第二部へ上場。
1986-04 埼玉県川口市にQMS株式会社設立。
1990-01 マレーシア ジョホール州にENPLAS CO.,(SINGAPORE)PTE. LTD.の子会社ENPLAS PRECISION(MALAYSIA)SDN.BHD.設立。
1990-03 決算期を12月31日から3月31日に変更。
1990-04 商号を株式会社エンプラスに変更。
1992-11 本社ビルを現在地に竣工。
1993-08 米国カリフォルニア州にENPLAS TECH(U.S.A.), INC.〔現、ENPLAS TECH SOLUTIONS,INC.〕設立。
1997-03 タイ アユタヤ県にENPLAS PRECISION(THAILAND)CO.,LTD.設立。
1997-06 中国上海市にHY-CAD SYSTEMS AND ENGINEERING社との合弁による販売会社ENPLAS HY-CAD INTERNATIONAL TRADING（SHANGHAI)CO.,LTD.〔現、ENPLAS ELECTRONICS(SHANGHAI)CO.,LTD.〕設立。
1998-09 台湾台中市に、HY-CAD SYSTEMS AND ENGINEERING社及びNICHING社との合弁による販売会社ENPLAS HN TECHNOLOGY CORPORATION〔現、ENPLAS NICHING TECHNOLOGY CORPORATION〕設立。
2000-03 東京証券取引所市場第一部へ指定替え。
2002-04 半導体機器事業部を会社分割の方法で分社化、埼玉県さいたま市に株式会社エンプラス半導体機器設立。
2003-10 ENPLAS(EUROPE)B.V.〔現 ENPLAS(EUROPE)LTD.（現在の所在地は英国ロンドン）〕設立。
2004-06 米国カリフォルニア州にENPLAS NANOTECH, INC.設立。
2005-06 栃木県鹿沼市に鹿沼工場完成。
2005-08 ベトナム ハノイ市にENPLAS HI-TECH(SINGAPORE)PTE.LTD.の子会社として、ENPLAS(VIETNAM)CO.,LTD.設立。
2006-12 中国広東省広州市にENPLAS HI-TECH(SINGAPORE)PTE.LTD.の子会社GUANGZHOU ENPLAS MECHATRONICS CO.,LTD.設立。
2011-07 インドネシア 西ジャワ州ブカシ市にPT.ENPLAS INDONESIA設立。
2012-04 ＬＥＤ関連事業を会社分割の方法で分社化、埼玉県川口市に株式会社エンプラス ディスプレイ デバイス設立。 年次摘要
2013-08 シンガポールにENPLAS SEMICONDUCTOR PERIPHERALS PTE.LTD.を設立。半導体機器事業の本社機能を移転するとともに、株式会社エンプラス半導体機器を同社子会社化。
2013-12 米国カリフォルニア州にENPLAS MICROTECH,INC.設立。
2014-03 フィリピンにENPLAS SEMICONDUCTOR PERIPHERALS PTE.LTD.の子会社ENPLAS SEMICONDUCTOR PERIPHERALS PHILIPPINES,INC.設立。
2014-04 ENPLAS(EUROPE)B.V.が英国NIKAD Electronics Limited社より欧州におけるバーンインソケット及びテストソケット事業の営業権を譲り受けるとともに、ドイツ及びイタリアの同社子会社NIKAD Electronik GmbH及びNIKAD Electronics S.r.l.をENPLAS(EUROPE)B.V.の子会社として譲り受け、ENPLAS(DEUTSCHLAND)GmbH及びENPLAS(ITALIA)S.R.L.に社名変更。
2014-05 イスラエルにENPLAS(EUROPE)B.V.の子会社ENPLAS(ISRAEL)LTD.設立。
2015-06 監査役会設置会社から監査等委員会設置会社に移行。
2015-07 東京都千代田区にグローバル本社を開設。
2015-11 米国ニューヨーク州にENPLAS AMERICA,INC.を設立。
2017-06 ENPLAS AMERICA,INC.が米国POLYLINKS, INC.社〔現、ENPLAS LIFE TECH,INC.〕を株式取得により子会社化。
2019-10 中国江蘇省にENPLAS NICHING TECHNOLOGY CORPORATIONの子会社ENPLAS NICHING SUZHOU CO.,LTD.設立。
2021-06 任意の「指名・報酬諮問委員会」を設置。
2021-09 株式会社エンプラス ディスプレイ デバイスを吸収合併。
2022-04 東京証券取引所の市場区分の見直しにより、東京証券取引所の市場第一部からプライム市場へ移行。
2022-04 京都府京都市下京区に京都共創センターを開設。
有価証券報告書の「沿革」記載事項をそのまま再構成しています（AI生成ではありません）
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
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公的実績 会員
出典 経済産業省 gBizINFO
取得 2026-07-18
表彰 1
表彰 1件
次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 厚生労働省
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知的財産（特許・意匠・商標） 会員
出典 経済産業省 gBizINFO（特許庁の産業財産権情報）
特許 597意匠 5商標 34
意匠 フェイスガード 登録1691155
意匠 フェイスガード 登録1691156
意匠 フェイスガード 登録1691157
意匠 フェイスガード 登録1691154
特許 遊星歯車装置のキャリア及び遊星歯車装置 登録7458925
特許 光レセプタクルおよび光モジュール 登録7441698
特許 金型 登録7483439
特許 コンタクトピン及びソケット 登録7444659
特許 コンタクトピン及びソケット 登録7444659
特許 コンタクトピン及びソケット 登録7444659
特許 光束制御部材、発光装置、面光源装置および表示装置 登録7409921
特許 光束制御部材、発光装置、面光源装置および表示装置 登録7409921
特許 光束制御部材、発光装置、面光源装置および表示装置 登録7409921
特許 光束制御部材、発光装置、面光源装置および表示装置 登録7409921
特許 光束制御部材、発光装置、面光源装置および表示装置 登録7409921
特許 光束制御部材、発光装置、面光源装置および表示装置 登録7409921
特許 光束制御部材、発光装置、面光源装置および表示装置 登録7409921
特許 光束制御部材、発光装置、面光源装置および表示装置 登録7409921
特許 光束制御部材、発光装置、面光源装置および表示装置 登録7409921
特許 流体取扱装置、流体取扱システムおよび液滴含有液の製造方法 登録7395387
ほか 616 件（新しい順に20件表示）
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