2021-12
13日に、TOPPANグループのフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業の承継会社として設立され、
2022-04
1日に権利義務を承継する吸収分割に合わせ、株式会社トッパンフォトマスクとして事業を開始しました。また、
2024-11
1日に商号をテクセンドフォトマスク株式会社へ変更し、
2025-10
16日に東京証券取引所プライム市場に上場いたしました。 (当社設立前)年月概要1961年シリコントランジスタ製造用フォトマスクの試作成功
1968-03
朝霞工場精密部品棟にクリーンルームが完成シリコントランジスタマスクの量産を開始
1970-09
滋賀精密工場竣工
1974-12
朝霞精密電子第一工場竣工最新鋭設備と高性能クリーンルームを完備
1986-02
朝霞精密電子第二工場竣工
1997-03
中華映管股份有限公司、揚博科技股份有限公司と合弁で、中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)を設立
1998-08
滋賀工場でフォトマスク新棟竣工
2003-02
朝霞第三工場竣工
2005-04
DuPont Photomasks, Inc.の株式取得に関する手続き完了。Toppan Photomasks, Inc.(現 Tekscend Photomask US Inc.)が始動
2014-05
中国科学院上海微系統与信息技術研究所が保有する上海凸版光掩模有限公司(現 上海徐匯科盛徳半導体有限公司)の持分28.5％を買取り、完全子会社化
2015-03
中華映管股份有限公司が保有する中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)の株式を取得し、子会社化
2015-04
上海凸版光掩模有限公司が新工場を建設製造ラインを拡充しフォトマスクの生産能力を増強
2019-08
Toppan Photomasks Round Rock, Inc.(現 Tekscend Photomask Round Rock Inc.)を設立GlobalFoundriesの内製マスクライン生産設備を購入、移設し、米国内のGlobalFoundriesウェハ工場向けにフォトマスクを供給 (当社設立後)年月概要
2022-04
株式会社トッパンフォトマスクが凸版印刷株式会社よりフォトマスク事業を承継当社株式の49.9％を凸版印刷株式会社からインテグラルグループが取得
2023-07
本社を汐留シティセンターに移転
2024-11
商号をテクセンドフォトマスク株式会社に変更
2025-10
東京証券取引所プライム市場に上場
有価証券報告書の「沿革」記載事項をそのまま再構成しています（AI生成ではありません）
