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法人番号 1010401164466

テクセンドフォトマスク株式会社

上場 プライム 東京都港区 従業員 545名 設立 2021-12-13
照合済みの公的データ
国税庁 年金機構 gBizINFO EDINET
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基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2024-11-11
商号
テクセンドフォトマスク株式会社
法人種別
株式会社
証券コード
429A　東証プライム・その他製品（TOPIX Small 2）
本店所在地
東京都港区東新橋１丁目５番２号
電話番号
03-5418-3905 （有価証券報告書 表紙より）
設立
2021-12-13
法人番号指定日
2021-12-16
インボイス登録
登録済　T1010401164466（2023-10-01登録）
代表者
二ノ宮 照雄
従業員数
545名
事業概要 公開
出所 gBizINFO（事業者の登録情報）
フォトマスク（半導体の原版）の製造
従業員数 公開
出所 日本年金機構
取得 2026-08-02
545 名 厚生年金 被保険者数
注意情報 官報を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
官報の公告は確認されていません
破産手続・解散・合併等の官報公告を毎日照合しています
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同じ住所に登記されている法人 公開
出所 国税庁 登記住所

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  1. 7010601037788
  2. 8010401029662
  3. 1012801018219
  4. 6010401050876
  5. 9010401042532
  6. ドーン株式会社
    株式会社
    5010001117738
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財務ハイライト 会員
出所 EDINET 有価証券報告書
提出 2026-06-24
最新期の主要数値 2026-03期 無料公開
売上高
1295.8億円
純利益
249.5億円
総資産
2307.3億円
純資産
1745.1億円
自己資本比率
75.6%
EPS
261.1円
1株配当
56円
純利益率 19.3%1人あたり売上 67百万円ROE 17.2%ROA 10.8%増収率 +9.8%
5期サマリー
指標直近前期比CAGR推移（古→新）
売上高 1295.8億円 +9.8% +8.7%
経常利益 100.9億円 -62.7% -9.8%
純利益 249.5億円 +150.8% +4.0%
総資産 2307.3億円 +37.5% +724.2%
純資産 1745.1億円 +49.9% +668.6%
EPS（1株利益） 261.1円 +150.7% +5.6%
BPS（1株純資産） 1,230.9円 +19.8% +492.3%
営業CF 360.6億円 +37.5% -5.9%
現金・現金同等物 515.5億円 +86.0% +4.1%
自己資本比率 75.6% +6.2pt —
ROE 17.2% +9.4pt —
売上高の推移
2023-03
1007.8億円
2024-03
1070.9億円
2025-03
1179.7億円
2026-03
1295.8億円
純利益の推移 （■黒字 / ■赤字）
2023-03
221.6億円
2024-03
161.1億円
2025-03
99.5億円
2026-03
249.5億円
損益
決算期売上高営業利益経常利益純利益
2026-03 1295.8億円-100.9億円249.5億円
2025-03 1179.7億円-270.4億円99.5億円
2024-03 1070.9億円-72.5億円161.1億円
2023-03 1007.8億円-137.2億円221.6億円
2022-03 ----
財政状態・株主還元
決算期総資産純資産自己資本比率ROE1株配当
2026-03 2307.3億円1745.1億円 75.6% 17.2% 56円
2025-03 1677.5億円1163.8億円 69.4% 7.8% -
2024-03 1899.1億円1377.1億円 72.5% 13.0% 90円
2023-03 1579.6億円1106.0億円 70.0% 22.9% -
2022-03 50百万円50百万円 100.0% - -
キャッシュ・フロー
決算期営業CF投資CF財務CF現金・現金同等物
2026-03 360.6億円-351.5億円198.6億円515.5億円
2025-03 262.3億円-328.9億円-285.4億円277.1億円
2024-03 286.4億円-139.0億円-16.1億円632.9億円
2023-03 433.4億円36.5億円-13.5億円457.0億円
連結優先・なければ単体。決算期変更があった企業は過去期の年月が実際とずれる場合があります
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給与・働く環境 公開
出所 EDINET 有価証券報告書（提出会社単体）
提出 2026-06-24
平均年収
807 万円
平均年齢
43.5 歳
平均勤続
3.3 年
8.4%
女性管理職比率
100.0%
男性育休取得率
80.1%
男女間賃金比
同業種内のポジション その他製品・上場104社との比較 上位25%以内
下位25% 506万中央値 574万上位25% 725万
有価証券報告書「従業員の状況」より（提出会社単体・当期）。男女間賃金比は男性=100としたときの女性の賃金割合。同業比較は東証33業種で分類した上場企業の最新期を四分位で集計（外れ値=100万円未満・1億円超は除外）
従業員数 公開
出所 日本年金機構 / EDINET
545 名 厚生年金 被保険者数（2026-08-02時点）
従業員数の推移（有報ベース）
2023-03
1,698名
2024-03
1,747名
2025-03
1,869名
2026-03
1,944名
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テクセンドフォトマスク株式会社の従業員データカード
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役員 会員
出所 EDINET 有価証券報告書
提出 2026-06-24
二ノ宮照雄
代表取締役 社長執行役員 CEO
Michael G．Hadsell
取締役 執行役員 COO
糸雅誠一
取締役 執行役員 CFO
黒部隆
取締役
山崎壯
社外取締役
須原忠浩
社外取締役
所千晴
社外取締役
鄧茂松
社外取締役
薄井優彰
常勤社外監査役
齊藤和子
社外監査役
本村健
社外監査役
有価証券報告書「役員の状況」記載の取締役・監査役等（提出日時点）
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大株主 会員
出所 EDINET 有価証券報告書
提出 2026-06-24
1 TOPPANホールディングス株式会社
46.55%
2 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口)
6.91%
3 QATAR HOLDING LLC(常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部)
4.63%
4 CEPLUX-THE INDEPENDENT UCITS PLATFORM 2(常任代理人 シティバンク、エヌ・エイ東京支店)
2.24%
5 THE CHASE MANHATTAN BANK, N.A. LONDONSECS LENDING OMNIBUS ACCOUNT(常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部)
1.44%
6 株式会社カストディ銀行(信託口)
1.39%
7 NORTHERN TRUST CO.(AVFC) RE UKUC UCITS CLIENTS NON LENDING 10PCT TREATY ACCOUNT(常任代理人 香港上海銀行東京支店)
1.33%
8 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505025(常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部)
1.13%
9 三木正浩
1.12%
10 インテグラル株式会社
0.85%
有価証券報告書「大株主の状況」より（発行済株式総数に対する所有株式数の割合）
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沿革 公開
出所 EDINET 有価証券報告書「沿革」
1968-03 朝霞工場精密部品棟にクリーンルームが完成シリコントランジスタマスクの量産を開始
1970-09 滋賀精密工場竣工
1974-12 朝霞精密電子第一工場竣工最新鋭設備と高性能クリーンルームを完備
1986-02 朝霞精密電子第二工場竣工
1997-03 中華映管股份有限公司、揚博科技股份有限公司と合弁で、中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)を設立
1998-08 滋賀工場でフォトマスク新棟竣工
2003-02 朝霞第三工場竣工
2005-04 DuPont Photomasks, Inc.の株式取得に関する手続き完了。Toppan Photomasks, Inc.(現 Tekscend Photomask US Inc.)が始動
2014-05 中国科学院上海微系統与信息技術研究所が保有する上海凸版光掩模有限公司(現 上海徐匯科盛徳半導体有限公司)の持分28.5％を買取り、完全子会社化
2015-03 中華映管股份有限公司が保有する中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)の株式を取得し、子会社化
2015-04 上海凸版光掩模有限公司が新工場を建設製造ラインを拡充しフォトマスクの生産能力を増強
2019-08 Toppan Photomasks Round Rock, Inc.(現 Tekscend Photomask Round Rock Inc.)を設立GlobalFoundriesの内製マスクライン生産設備を購入、移設し、米国内のGlobalFoundriesウェハ工場向けにフォトマスクを供給 (当社設立後)年月概要
2022-04 株式会社トッパンフォトマスクが凸版印刷株式会社よりフォトマスク事業を承継当社株式の49.9％を凸版印刷株式会社からインテグラルグループが取得
2023-07 本社を汐留シティセンターに移転
2024-11 商号をテクセンドフォトマスク株式会社に変更
2025-10 東京証券取引所プライム市場に上場
有価証券報告書の「沿革」記載事項をそのまま再構成しています（AI生成ではありません）
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
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公的実績 会員
出典 経済産業省 gBizINFO
取得 2026-07-18
届出・認定 1
届出・認定 1件
物品の製造：A 物品の販売：A 役務の提供等：A デジタル庁
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知的財産（特許・意匠・商標） 会員
出典 経済産業省 gBizINFO（特許庁の産業財産権情報）
特許 17
特許 フォトマスク及びその検査方法 登録7482586
特許 フォトマスク及びその検査方法 登録7482586
特許 フォトマスク及びその検査方法 登録7482586
特許 反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク 登録7421411
特許 反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク 登録7421411
特許 タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法 登録7477300
特許 タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法 登録7477300
特許 タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法 登録7477300
特許 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法 登録7409861
特許 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法 登録7409861
特許 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法 登録7409861
特許 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法 登録7409861
特許 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法 登録7409861
特許 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法 登録7409861
特許 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法 登録7409830
特許 パターン形成体の製造方法 登録7270350
特許 パターン形成体の製造方法 登録7270350
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