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法人番号 3010001062135

日本真空光学株式会社

東京都千代田区 設立 1960-10-21
照合済みの公的データ
国税庁
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基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2018-05-29
商号
日本真空光学株式会社
法人種別
株式会社
本店所在地
東京都千代田区丸の内1丁目5番1号
設立
1960-10-21
法人番号指定日
2015-10-05
代表者
代表取締役 和田 賢憲
従業員数
99名
公式サイト
www.ocj.co.jp/
事業概要 公開
出所 gBizINFO(事業者の登録情報)
薄膜加工法による各種光学用部品及び電気部品の製造並びに販売。他社製品の販売及び開発受託業務。
同じ住所に登記されている法人 公開
出所 国税庁 登記住所

この会社と同一の登記住所に登記されている他の法人です(全228社)。同一住所に多数の法人がある場合はレンタル/バーチャルオフィスの可能性がありますが、件数の事実のみを示し判定はしません。

  1. 株式会社
    1010001067359
  2. 1010001091202
  3. 1010001139868
  4. 1010001175203
  5. 1010001237234
  6. 株式会社
    1010001254980
この住所の全228社を見る
注意情報 有無を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
注意情報は確認されていません
破産手続・解散・行政処分の公表を毎日照合しています
財務(決算公告) 公開
出所 官報 会社決算公告
公告 2026-04-07

上場企業の有価証券報告書(EDINET)に載らない中小企業の財務を、官報の会社決算公告から自動で読み取ったものです。

総資産
33.67億円
純資産
29.96億円
当期純利益
7,239万円
自己資本比率
89.0 %
決算期総資産負債純資産資本金当期純利益
2025-12 33.67億円 3.70億円 29.96億円 2.10億円 7,239万円
2024-12 32.46億円 3.23億円 29.24億円 2.10億円 -4,496万円
PDF官報の原本を見る(別タブで開く)
官報の「会社決算公告 貸借対照表の要旨」から自動で読み取った数値です。様式は会社ごとに異なり、読み取り誤りの可能性があります。正確な値は原本でご確認ください。誤りは訂正報告へ。
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
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知的財産(特許・意匠・商標) 会員
出典 経済産業省 gBizINFO(特許庁の産業財産権情報)
特許 3
特許 光学フィルタ 登録7184979
特許 反射防止膜 登録7332359
特許 帯域透過フィルタ 登録6542511
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