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法人番号 2090001008148

株式会社トリケミカル研究所

上場 プライム 山梨県上野原市 従業員 315名
照合済みの公的データ
国税庁 年金機構 gBizINFO EDINET
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沿革 公開
出所 EDINET 有価証券報告書「沿革」
1978-12 無機化学工業製品の製造・精製・販売を目的として神奈川県相模原市(現神奈川県相模原市中央区)に㈱トリケミカル研究所(資本金2,500千円)を設立
1979-12 光ファイバー用原材料における水分(OH基)の除去に成功、供給を開始
1982-08 光ファイバー用硼素原材料としての三塩化硼素の合成に成功、供給を開始
1983-02 三塩化硼素の量産化に成功、半導体用エッチング材料として半導体業界への供給を開始
1984-03 本社工場を神奈川県愛甲郡愛川町に移転
1984-09 化合物半導体材料としての高純度三塩化砒素の供給を開始
1994-01 東京都江東区(後に東京都港区に移転)に臭化水素製造の目的でテイサン㈱(現日本エア・リキード(同))との合弁で関連会社㈱エッチ・ビー・アールを設立
1994-11 本社工場を山梨県北都留郡上野原町(現山梨県上野原市)に移転
2000-10 本社工場にて「ISO9001」を取得
2007-08 ㈱大阪証券取引所 ニッポン・ニュー・マーケット―「ヘラクレス」に上場
2008-07 本社工場にて「ISO14001」を取得
2008-11 山梨県上野原市に上野原第二工場を建設
2010-10 大阪証券取引所ヘラクレス市場、同取引所JASDAQ市場及び同取引所NEO市場の各市場の統合に伴い、大阪証券取引所JASDAQ(スタンダード)に株式を上場
2011-06 上野原第二工場にて「ISO14001」を取得
2011-11 上野原第二工場にて「ISO9001」を取得
2013-07 東京証券取引所と大阪証券取引所の現物市場の統合に伴い、東京証券取引所JASDAQ(スタンダード)に株式を上場
2013-12 大韓民国城南市(後に水原市に移転)に韓国事務所を開設
2016-07 大韓民国世宗特別自治市に同国における半導体用次世代材料の開発、製造及び販売の目的で、SK Materials Co., Ltd.(現SK Inc.)との合弁で関連会社SK Tri Chem Co., Ltd.を設立
2017-03 台湾新竹縣竹北市(後に苗栗縣銅鑼郷に移転)に100%子会社の三化電子材料股份有限公司を設立
2018-01 東京証券取引所市場第一部へ市場変更
2020-07 三化電子材料股份有限公司が台湾苗栗縣銅鑼郷に工場を建設
2020-09 山梨県上野原市にAnnex棟を建設
2022-04 東京証券取引所の市場区分見直しに伴い、東京証券取引所プライム市場に株式を上場
2022-07 当社にて「ISO45001」を取得
2024-08 中華人民共和国上海市に100%子会社の上海特李化学科技有限公司を設立
2025-03 山梨県南アルプス市に南アルプス事業所を建設
2025-09 中華人民共和国安徽省合肥市に同国における先端半導体材料等の研究開発、生産及び販売の目的で、合肥安德科銘半導体科技有限公司との合弁で関連会社安徳拓化 (安徽) 電子材料有限公司を設立
有価証券報告書の「沿革」記載事項をそのまま再構成しています(AI生成ではありません)
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
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