ZENTENA
ログイン
法人番号 9130001052770

ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社

京都府長岡京市 従業員 1,643名
照合済みの公的データ
国税庁 年金機構 gBizINFO 官報
共有 ポスト @Threads LINE
基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2024-07-18
商号
ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社
法人種別
株式会社
本店所在地
京都府長岡京市神足焼町1番地
法人番号指定日
2015-10-05
インボイス登録
登録済 T9130001052770(2023-10-01登録)
代表者
ヌヴォトンテクノロ
従業員数
1,643名
公式サイト
www.nuvoton.co.jp/
事業概要 公開
出所 gBizINFO(事業者の登録情報)
電子部品・デバイス・電子回路製造・販売
従業員数 公開
出所 日本年金機構
取得 2026-09-12
1,643 厚生年金 被保険者数
注意情報 官報を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
資本減少公告 準備金の額の減少公告・減少額 七十億円(官報 本紙 第1760号 p.32) 官報
🔒 与信チェック(公的データ5源との照合) 有料プラン

この企業について、以下の照合結果(記録の有無・件数・内容・出典)を確認できます。

🔒 行政処分の公表 消費者庁・公正取引委員会・金融庁・個人情報保護委員会・都道府県
🔒 労働基準関係法令違反の公表 47労働局の送検事案
🔒 指名停止措置 都道府県の発注機関
🔒 雇用関係助成金の不正受給の公表 47労働局(返還額つき)
🔒 インボイス登録の失効・取消 国税庁
無料会員: 月3社の深掘り・CSV50件 有料: +与信5源・ウォッチ通知・CSV500件〜
無料登録してはじめる

※ 表示は全企業共通です(この企業に記録があるかどうかは、この画面からは分かりません)。公的機関が公表した事実のみを出典つきで掲載しています。

同じ住所に登記されている法人 公開
出所 国税庁 登記住所

この会社と同一の登記住所に登記されている他の法人です(全4社)。同一住所に多数の法人がある場合はレンタル/バーチャルオフィスの可能性がありますが、件数の事実のみを示し判定はしません。

  1. 9120001158230
  2. 3130005004732
  3. 9130001066639
女性活躍・両立支援 公開
出所 厚生労働省 女性の活躍推進企業データベース
時点 2026年7月31日時点
女性役員比率
22.2 %
1.1%
女性管理職比率
80.1%
男女間賃金比
出典:女性の活躍推進企業データベースオープンデータ(2026年7月31日時点)(https://positive-ryouritsu.mhlw.go.jp/positivedb/opendata/)を加工して作成。企業が自ら入力・公表した情報で、空欄は非公表。男女間賃金比は男性=100としたときの女性の賃金割合(全労働者)。
従業員数 公開
出所 日本年金機構 / EDINET
1,643 厚生年金 被保険者数(2026-09-12時点)
この情報を引用する 無料

SNSにこのページのリンクを貼ると、下のカードが自動で表示されます。画像そのものの保存もできます(出典表記つき・引用自由)。

ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社の従業員データカード
Xでポストする 画像を保存
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
無料登録で見られます
メールアドレスだけで登録完了。無料プランは毎月3社まで深掘りできます。
無料で登録する
公的実績 会員
出典 経済産業省 gBizINFO
取得 2026-07-20
補助金 2
補助金 2件
令和3年度産業技術実用化開発事業費補助金(サプライチェーン上不可欠性の高い半導体の生産設備の脱炭素化・刷新事業費補助金)二次公募(ヌヴォトン2) 19百万円 経済産業省
令和3年度産業技術実用化開発事業費補助金(サプライチェーン上不可欠性の高い半導体の生産設備の脱炭素化・刷新事業費補助金)一次公募(ヌヴォトン) 1.1億円 経済産業省
無料登録で見られます
メールアドレスだけで登録完了。無料プランは毎月3社まで深掘りできます。
無料で登録する
知的財産(特許・意匠・商標) 会員
出典 経済産業省 gBizINFO(特許庁の産業財産権情報)
特許 766意匠 1商標 4
特許 蓄電パック、半導体装置、および、半導体装置の製造方法 登録7474557
特許 蓄電パック、半導体装置、および、半導体装置の製造方法 登録7474557
特許 蓄電パック、半導体装置、および、半導体装置の製造方法 登録7474557
商標 ALSOFIA 登録6779101
特許 半導体装置 登録7442750
特許 半導体装置 登録7442750
特許 半導体装置 登録7442750
特許 半導体装置 登録7442750
特許 半導体装置 登録7442750
特許 半導体装置 登録7442750
特許 半導体装置 登録7442750
特許 半導体装置 登録7442750
特許 半導体装置および半導体装置の製造方法 登録7422271
特許 半導体装置 登録7393593
特許 半導体装置 登録7393593
特許 半導体装置 登録7393593
特許 半導体装置 登録7393593
特許 半導体装置 登録7393593
特許 半導体装置 登録7393593
特許 半導体装置 登録7393593
ほか 751 件(新しい順に20件表示)
無料登録で見られます
メールアドレスだけで登録完了。無料プランは毎月3社まで深掘りできます。
無料で登録する