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法人番号 8020001037957

よこはまティーエルオー株式会社

神奈川県横浜市保土ケ谷区 設立 2000-12-20
照合済みの公的データ
国税庁 gBizINFO
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基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2019-09-24
商号
よこはまティーエルオー株式会社
法人種別
株式会社
本店所在地
神奈川県横浜市保土ケ谷区常盤台79番5号
設立
2000-12-20
法人番号指定日
2015-10-05
インボイス登録
登録済 T8020001037957(2023-10-01登録)
代表者
代表取締役 蛯名 喜代作
注意情報 官報を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
官報の公告は確認されていません
破産手続・解散・合併等の官報公告を毎日照合しています
🔒 与信チェック(公的データ5源との照合) 有料プラン

この企業について、以下の照合結果(記録の有無・件数・内容・出典)を確認できます。

🔒 行政処分の公表 消費者庁・公正取引委員会・金融庁・個人情報保護委員会・都道府県
🔒 労働基準関係法令違反の公表 47労働局の送検事案
🔒 指名停止措置 都道府県の発注機関
🔒 雇用関係助成金の不正受給の公表 47労働局(返還額つき)
🔒 インボイス登録の失効・取消 国税庁
無料会員: 月3社の深掘り・CSV100件 有料: +与信5源・ウォッチ通知・CSV500件〜
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※ 表示は全企業共通です(この企業に記録があるかどうかは、この画面からは分かりません)。公的機関が公表した事実のみを出典つきで掲載しています。

同じ住所に登記されている法人 公開
出所 国税庁 登記住所

この会社と同一の登記住所に登記されている他の法人です(全5社)。同一住所に多数の法人がある場合はレンタル/バーチャルオフィスの可能性がありますが、件数の事実のみを示し判定はしません。

  1. 株式会社
    4020001134568
  2. その他の設立登記法人
    3020005005147
  3. 4020005014790
  4. 株式会社
    7020001153268
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
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公的実績 会員
出典 経済産業省 gBizINFO
取得 2026-07-20
補助金 14
補助金 14件
令和5年度中小企業経営支援等対策費補助金(成長型中小企業等研究開発支援事業)(世界初、生体試料表面の高速かつ超微量定量装置) 32百万円 経済産業省
令和5年度中小企業経営支援等対策費補助金(成長型中小企業等研究開発支援事業)(次世代自動車開発における安全性・快適性を確保する振動測定システムの開発) 21百万円 経済産業省
令和5年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(化学物質の網羅検出・スクリーニングを実現するMS用着脱オプションの研究開発) 23百万円 経済産業省
令和5年度中小企業経営支援等対策費補助金(成長型中小企業等研究開発支援事業)(高機能・高精度・低コスト・短納期・環境配慮を実現する、DXによる試作レス冷間鍛造品開発技術の確立) 45百万円 経済産業省
令和4年度中小企業経営支援等対策費補助金(成長型中小企業等研究開発支援事業)(次世代自動車開発における安全性・快適性を確保する振動測定システムの開発) 21百万円 経済産業省
令和4年度中小企業経営支援等対策費補助金(成長型中小企業等研究開発支援事業)(世界初、生体試料表面の高速かつ超微量定量装置) 43百万円 経済産業省
令和4年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(高機能ファインセラミックス用噴霧凍結造粒乾燥装置の研究開発) 32百万円 経済産業省
令和4年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(赤外領域高出力レーザー耐性光学薄膜形成装置の開発) 24百万円 経済産業省
令和4年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(化学物質の網羅検出・スクリーニングを実現するMS用着脱オプションの研究開発) 30百万円 経済産業省
令和3年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(化学物質の網羅検出・スクリーニングを実現するMS用着脱オプションの研究開発) 45百万円 経済産業省
令和3年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(赤外領域高出力レーザー耐性光学薄膜形成装置の開発) 42百万円 経済産業省
令和3年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(高機能ファインセラミックス用噴霧凍結造粒乾燥装置の研究開発) 45百万円 経済産業省
令和2年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(赤外領域高出力レーザー耐性光学薄膜形成装置の開発) 31百万円 経済産業省
令和2年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(高機能ファインセラミックス用噴霧凍結造粒乾燥装置の研究開発) 20百万円 経済産業省
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知的財産(特許・意匠・商標) 会員
出典 経済産業省 gBizINFO(特許庁の産業財産権情報)
特許 5
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