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法人番号 6010401082746

JSR株式会社

登記表記JSR株式会社
登記閉鎖 2024-12-16(合併による解散等) 東京都港区
照合済みの公的データ
国税庁 gBizINFO
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基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2025-01-10
商号
JSR株式会社
法人種別
株式会社
本店所在地
東京都港区東新橋1丁目9番2号
法人番号指定日
2015-10-05
代表者
代表取締役CEO兼社長  エリック ジョンソン
従業員数
2,131名
事業概要 公開
出所 gBizINFO(事業者の登録情報)
デジタルソリューション事業:高分子材料の開発で培った技術を活用し、半導体チップの製造工程で不可欠な各種の「リソグラフィ材料」「化学的機械的平坦化(CMP)材料」「先端実装材料」、液晶ディスプレイ(LCD)や有機ELなどフラットパネル・ディスプレイ(FPD)の製造に用いる各種の「LCD材料」「次世代ディスプレイ材料」、3次元造形に用いる「紫外線硬化樹脂」などを提供しており、グローバルにトップレベルのシェアをもつ製品が多数あります。 合成樹脂事業:自動車部品、家庭電化製品、建材など幅広い用途に使用されるABS樹脂を中心として事業展開しています:
同じ住所に登記されている法人 公開
出所 国税庁 登記住所

この会社と同一の登記住所に登記されている他の法人です(全41社)。同一住所に多数の法人がある場合はレンタル/バーチャルオフィスの可能性がありますが、件数の事実のみを示し判定はしません。

  1. 1010001016976
  2. その他の設立登記法人
    1010005030197
  3. 1010401033860
  4. 1010401174498
  5. 株式会社
    1010401175166
  6. 株式会社
    1010801018437
この住所の全41社を見る
注意情報 有無を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
注意情報は確認されていません
破産手続・解散・行政処分の公表を毎日照合しています
働く環境 公開
出所 gBizINFO(女性活躍・両立支援の公表情報)
収集 2026年6月
平均勤続(男)
13.1
平均勤続(女)
13.1
女性比率
19.7 %
6.9%
女性管理職比率
9.1%
女性役員比率
女性の職業生活における活躍推進法・次世代育成支援対策推進法に基づく企業の公表情報より。空欄は非開示。
従業員数 公開
出所 EDINET
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
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公的実績 会員
出典 経済産業省 gBizINFO
取得 2026-07-20
表彰 7
表彰 7件
えるぼし-認定 厚生労働省
次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 厚生労働省
次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 厚生労働省
次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 厚生労働省
次世代育成支援対策推進法に基づく「プラチナくるみん」特例認定 厚生労働省
なでしこ銘柄-認定 厚生労働省
なでしこ銘柄-認定 厚生労働省
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知的財産(特許・意匠・商標) 会員
出典 経済産業省 gBizINFO(特許庁の産業財産権情報)
特許 4,037商標 88
商標 NSC 登録6788609
特許 化学機械研磨用組成物及び研磨方法 登録7468811
特許 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 登録7397419
特許 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 登録7397419
特許 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 登録7397419
特許 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 登録7397419
特許 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 登録7468744
特許 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 登録7468744
特許 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 登録7468744
特許 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 登録7468744
特許 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 登録7468744
商標 JTH 登録6732431
商標 ARTON 登録6691093
商標 ARTON 登録6691093
特許 半導体処理用組成物及び処理方法 登録7290195
特許 半導体処理用組成物及び処理方法 登録7290195
特許 半導体処理用組成物及び処理方法 登録7290194
特許 半導体処理用組成物及び処理方法 登録7290194
商標 JSR菜々色ファーム 登録6662866
商標 JSR菜々色ファーム 登録6662866
ほか 4,105 件(新しい順に20件表示)
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