ZENTENA
ログイン
法人番号 2010101011777

株式会社フィルネックス

東京都八王子市
照合済みの公的データ
国税庁
共有 ポスト @Threads LINE
基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2019-02-13
商号
株式会社フィルネックス
法人種別
株式会社
本店所在地
東京都八王子市別所1丁目42番地1、1-310
法人番号指定日
2015-10-05
インボイス登録
登録済 T2010101011777(2023-10-01登録)
注意情報 官報を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
官報の公告は確認されていません
破産手続・解散・合併等の官報公告を毎日照合しています
行政処分・労働基準関係法令違反の公表(消費者庁・都道府県・労働局等)との照合結果は、記録の有無を含め有料プランの会員向けに公開しています。プランを見る
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
無料登録で見られます
メールアドレスだけで登録完了。無料プランは毎月3社まで深掘りできます。
無料で登録する
知的財産(特許・意匠・商標) 会員
出典 経済産業省 gBizINFO(特許庁の産業財産権情報)
特許 22商標 4
特許 半導体基板の製造方法、半導体基板、及び半導体基板の製造装置 登録7364301
特許 半導体基板の製造方法、半導体基板、及び半導体基板の製造装置 登録7364301
特許 半導体基板の製造方法、半導体基板、及び半導体基板の製造装置 登録7364301
特許 半導体基板の製造方法、半導体基板、及び半導体基板の製造装置 登録7364301
特許 半導体基板の製造方法、半導体基板、及び半導体基板の製造装置 登録7364301
商標 EFB 登録6517287
商標 EFB 登録6517287
商標 EFB 登録6517287
商標 EFB 登録6517287
特許 半導体素子の製造方法及び半導体素子の製造システム 登録6991399
特許 半導体素子の製造方法及び半導体素子の製造システム 登録6991399
特許 半導体素子の製造方法及び半導体素子の製造システム 登録6991399
特許 半導体基板、半導体基板の製造方法及び半導体素子の製造方法 登録7441525
特許 半導体基板、半導体基板の製造方法及び半導体素子の製造方法 登録6836022
特許 半導体基板、半導体基板の製造方法及び半導体素子の製造方法 登録6836022
特許 半導体基板、半導体基板の製造方法及び半導体素子の製造方法 登録7441525
特許 半導体基板、半導体基板の製造方法及び半導体素子の製造方法 登録7441525
特許 半導体基板、半導体基板の製造方法及び半導体素子の製造方法 登録7441525
特許 半導体基板、半導体基板の製造方法及び半導体素子の製造方法 登録6836022
特許 半導体基板、半導体基板の製造方法及び半導体素子の製造方法 登録6836022
ほか 6 件(新しい順に20件表示)
無料登録で見られます
メールアドレスだけで登録完了。無料プランは毎月3社まで深掘りできます。
無料で登録する