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法人番号 2010001058951

メルテックス株式会社

東京都中央区
照合済みの公的データ
国税庁
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基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2018-10-02
商号
メルテックス株式会社
法人種別
株式会社
本店所在地
東京都中央区日本橋本町4丁目8番2号
法人番号指定日
2015-10-05
インボイス登録
登録済 T2010001058951(2023-10-01登録)
同じ住所に登記されている法人 公開
出所 国税庁 登記住所

この会社と同一の登記住所に登記されている他の法人です(全4社)。同一住所に多数の法人がある場合はレンタル/バーチャルオフィスの可能性がありますが、件数の事実のみを示し判定はしません。

  1. 9010001034748
  2. 株式会社
    9010001211207
  3. 8010001211208
  4. 6010001036747
  5. 9011501026722
  6. その他の設立登記法人
    3010005015997
注意情報 官報を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
官報の公告は確認されていません
破産手続・解散・合併等の官報公告を毎日照合しています
行政処分・労働基準関係法令違反・指名停止措置の公表(消費者庁・公正取引委員会・都道府県・労働局等)との照合結果は、記録の有無を含め有料プランの会員向けに公開しています。プランを見る
財務(決算公告) 公開
出所 官報 会社決算公告
公告 2026-02-12

上場企業の有価証券報告書(EDINET)に載らない中小企業の財務を、官報の会社決算公告から自動で読み取ったものです。

総資産
76.32億円
純資産
41.85億円
当期純利益
3.28億円
自己資本比率
54.8 %
決算期総資産負債純資産資本金当期純利益
2025-11 7,631,853 3,446,818 4,185,035 480,000 327,874
(単位: 千円・官報の公告表記と同じ)
PDF官報の原本を見る(別タブで開く)
官報の「会社決算公告 貸借対照表の要旨」から自動で読み取った数値です。上段の大きな数字は概数(億・万円に丸め)、表は公告と同じ千円単位です。様式は会社ごとに異なり、読み取り誤りの可能性があります。正確な値は原本でご確認ください。誤りは訂正報告へ。
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
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知的財産(特許・意匠・商標) 会員
出典 経済産業省 gBizINFO(特許庁の産業財産権情報)
特許 19商標 2
特許 無電解銅めっき液 登録7111410
特許 レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法 登録7407479
特許 レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法 登録7407479
特許 レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法 登録7407479
特許 アルミニウムおよびアルミニウム合金のめっき前処理方法 登録7416425
特許 シリコン半導体基板のエッチング方法、半導体装置の製造方法およびエッチング液 登録7236111
特許 シリコン半導体基板のエッチング方法、半導体装置の製造方法およびエッチング液 登録7236111
特許 無電解Ni-Fe合金めっき液 登録6960677
特許 銅エッチング液 登録6949306
特許 銅エッチング液 登録6949306
特許 電解銅めっき用陽極、及びそれを用いた電解銅めっき装置 登録6653799
特許 電解銅めっき用陽極、及びそれを用いた電解銅めっき装置 登録6653799
特許 電解銅めっき用陽極、及びそれを用いた電解銅めっき装置 登録6653799
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
特許 金属被膜及び金属被膜形成方法 登録6485896
商標 LUCENT COPPER 登録5748763
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