ZENTENA
ログイン
法人番号 1370001025074

株式会社CUSIC

登記表記株式会社CUSIC
宮城県仙台市青葉区
照合済みの公的データ
国税庁
共有 ポスト @Threads LINE
基本情報 公開
出所 国税庁・gBizINFO
確認 2020-03-17
商号
株式会社CUSIC
法人種別
株式会社
本店所在地
宮城県仙台市青葉区中央2丁目2番10号
法人番号指定日
2015-10-05
インボイス登録
登録済 T1370001025074(2024-12-26登録)
同じ住所に登記されている法人 公開
出所 国税庁 登記住所

この会社と同一の登記住所に登記されている他の法人です(全35社)。同一住所に多数の法人がある場合はレンタル/バーチャルオフィスの可能性がありますが、件数の事実のみを示し判定はしません。

  1. 1370001023706
  2. 2370005009898
  3. 株式会社
    3370001010322
  4. 3370001014307
  5. 3370001016996
  6. 3370001043925
この住所の全35社を見る
注意情報 官報を公開
出所 官報・行政処分公表
照合 毎日
官報の公告は確認されていません
破産手続・解散・合併等の官報公告を毎日照合しています
行政処分・労働基準関係法令違反の公表(消費者庁・都道府県・労働局等)との照合結果は、記録の有無を含め有料プランの会員向けに公開しています。プランを見る
基本情報の時系列 会員
出所 国税庁
照合 毎日
法人番号の指定 国税庁により法人番号が指定されました
変更履歴は2026年7月の収集開始以降に確認された変化です
無料登録で見られます
メールアドレスだけで登録完了。無料プランは毎月3社まで深掘りできます。
無料で登録する
知的財産(特許・意匠・商標) 会員
出典 経済産業省 gBizINFO(特許庁の産業財産権情報)
特許 53商標 4
商標 Step-Alignment 登録6708035
商標 CHESS-FET 登録6666203
商標 CHESS-MOS 登録6619792
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
特許 SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置 登録6795805
商標 DeChloClean 登録6279642
特許 炭化珪素の製造方法 登録6720436
特許 炭化珪素の製造方法 登録6720436
ほか 37 件(新しい順に20件表示)
無料登録で見られます
メールアドレスだけで登録完了。無料プランは毎月3社まで深掘りできます。
無料で登録する